多年前，中国曾派过多名科学家前往...

多年前，中国曾派过多名科学家前往荷兰光刻机ASML公司进行访问，结果ASML的工程师却直言说：“就算把设计图纸送给你们，中国也不可能造出高端光刻机！”

实际上，对于光刻机这样一种尖端科研设备，相信不用过多介绍，大家也都能明白其重要性。它作为芯片生产过程中复杂性和技术含量都相当高的一种科研设备，曾一度被称为“工业皇冠上的明珠”！

然而就是这样的技术，在全球范围内却被一家不起眼的“小公司”所垄断，它就是荷兰的ASML公司。根据数据显示，ASML垄断着全球将近90%的光刻机市场份额，其中的EUV光刻机更是ASML的独家产品。

随着芯片技术的重要性的逐渐显现，ASML这家公司也逐渐暴露在大家的视野当中。对于ASML的技术垄断，我们也只能远观，但芯片制造商台积电却是ASML最大客户，这主要也是得益于对ASML早期业务发展的助力，台积电每年才能获得ASML半数以上EUV光刻机的供货。

不过即便是100%垄断EUV光刻机，ASML在EUV技术上也不是自主的，最关键的技术依旧掌握在美国等科技公司的手中，主要是因为ASML的崛起本来就是依托于这些公司。

值得一提的是，即使ASML在如今光刻机领域风光无限，但是他的发展道路并没有大家想象的简单，光刻机这种复杂的科研设备所需要的投入远不是一家公司能够独立承担的，就连ASML也曾因为无力继续投入研发而差点退出。

在这种情况下，ASML运用了利益绑定的方式，将大客户都变成了自己的金主。有了金主们源源不断的投入，ASML才得以坚持研发。

但是不得不说的是，即使是依托于这么多大客户的入股，ASML也是奋斗了27年之久才开始正式走向盈利。

2018年，ASML的光刻机业务终于扭亏为盈，这主要得益于2017年，ASML成功制造了EUV光刻机。如今，ASML的光刻机业务已经处于平稳盈利的水平。

2020年，ASML共计完成了31台光刻机的出货，整体业务的净利润达到了280亿，在EUV光刻机出货量有限的情况下，仍然受到了台积电和三星两方的争抢。

不过在相应的晶圆代工厂制程工艺不断进步的情况下，ASML的EUV光刻机也需要做出进一步的升级。

在前段时间ASML的共同合作伙伴IMAG在日本举行的论坛上已经公开了下一代EUV光刻机的研发图。根据介绍，新一代的高NA EUV光刻机将能够运用在1nm的制程工艺芯片的生产，而新一代光刻机的量产时间可以确定。

根据阿斯麦给出的消息，能生产1nm制程工艺芯片，光刻机预计在2022年将运用在晶圆代工厂的生产线中，新一代的EUV光刻机在分辨率上有所提高。

所以，在生产芯片过程中的曝光次数也会减少，因此会极大地提高芯片的生产效率，对于目前芯片制造产能爆满情况的环节有一定的帮助，但是1nm的制程工艺，即使是技术最先进的台积电也没有完成研发，所以最终能不能成功运用在工厂的生产线中还不能得以最终确定。

不过在此之后，ASML也明确表示新一代的高NA EUV光刻机生产之后，ASML将会暂停更高分辨率光刻机的研发，主要是因为摩尔定律的极限还未确定，接下来ASML将会致力于研发更加环保的光刻机，主要是对于现有光刻机技术的改进。

根据目前芯片制程工艺的发展，硅基芯片的极限很可能就在1nm制程，所以ASML自然要考虑进一步研发的重点，要知道越是先进工艺研发成本就越高，不只是ASML面临着研发费用的飙升，就连台积电等晶圆代工厂商也面临着类似的问题。

根据台积电最新公布的数据来看，2021年的资金投入，预计在250亿美元到280亿美元之间，在没有制程工艺进一步的动向之前，ASML的研发也不敢轻举妄动。小伙伴们觉得呢？