我国最先进的光刻机到底达到了什么样的水准

我国最先进的光刻机到底达到了什么样的水准？简单介绍一下。

1.光刻机发展到现在一共经历了五代，第一代g-line型的几乎已经被淘汰了，如荷兰的光刻机巨头ASML自己不生产这种类型的光刻机了。

2.第二代i-line、第三代KrF、第四代ArF是当下主流的光刻机，后两者更加多一些。而全球只有一家公司能够生产最新的第五代EUV光刻机，每年产量40多台，处于供不应求的状态。

3.每一代光刻机能够量产的芯片制程实不同的，如EUV能够量产7纳米至22纳米制程芯片的光刻机，10纳米以内的高端芯片只能用EUV光刻机制造，所以荷兰ASML是光刻机领域的绝对霸主，与其他企业之间的技术差距非常明显。

4.我国最先进的光刻机制造公司是上海微电子。目前能够制造第四代ArF型光刻机的步进投影式（ArFdry），正在研发浸没步进式（ArFi），一旦完成研发就能解决28纳米制程芯片的量产问题，不需要用国外的技术了，相信未来是能够突破的。

希望中国的科学家继续努力，面对技术问题迎难而上，尽快研发出第五代EUV光刻机，这么一来才不会被卡脖子。

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