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光刻机
氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。看到这个消息真的很激动，无论如何这是国产光刻机的巨大进步。不在受制于人，必须迈出这一步。而且既然这个公布了，那就代表有更好的在后面。