光刻机国产化确实刻不容缓

光刻机国产化确实刻不容缓。就像上海微电子，2025年3月其“先进封装光刻机产业化项目”环评获批，新增100台高端光刻机产能。以前年产能才19台，之后能达到119台，产能提升超5倍，这对国产替代意义非凡。而且2025年2月交付的首台2.5D/3D先进封装光刻机性能对标国际最高水平。前道光刻机也有成果，90nm稳定量产，28nm进入实测阶段。光刻机国产化不是单一方面的事，是设备、材料、工艺全链条协同，只有这样才能真正打破国外垄断，在全球半导体产业站稳脚跟。