我国在激光等离子体EUV光刻机研发...

我国在激光等离子体EUV光刻机研发有重大突破，
国产光源转化率达3.42% （5.5%就可以完全商用）

简单来说，国产光刻机也能土法上马！

这次突破的负责人林楠，激光科学家，21年归国
曾在荷兰光刻机巨头ASML担任研发部光源负责人

而他的前东家评论中国这次技术突破，可酸了
说"意料之中，但中国仍需要多年才能造出光刻机"

是吗，当年开始造原子弹前也有人这么说我们的