芯片工艺真相

半导体设备看上海，高端制造领头羊！
最新发布的氟化氩光刻机能支持7nm吗？看了这些数据，你就会有结论：
1、国产氟化氩DUV光刻机指标：波长193nm，分辨率65nm，套刻精度8nm。
不要被套刻精度所迷糊，分辨率更重要，注意是65nm
2、工艺节点7nm实际的FET尺寸是多少？28nm以后的工艺节点XXnm其实只是个营销名称，实际FET尺寸比这个大（因为摩尔定律放缓），7nm对应的FET pitch宽度～40nm
3、业界具备7nm能力的DUV光刻机是什么指标？一般采用浸没式氟化氩，波长缩短到134nm，如尼康ArFi：分辨率38nm，套刻精度1.7nm，每小时280张晶圆

另外ASML 最新的高NA EUV光刻机EXE:5000样机，分辨率8nm，套刻精度为1.1nm
其实对批量生产，生产率和良率也非常重要。
万事开头难，相信以后会越来越顺！
国产出来，那么进口光刻机的离谱价格也很难维持。
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