我记得我之前说过，关于光刻机这些...

我记得我之前说过，关于光刻机这些，依靠华为自己是不现实了，国内需要一起努力攻克

现在长鑫存储曝光了其光刻机的部分专利

专利名：半导体光刻补偿方法

说明摘要如下：

本申请实施例属于半导体制造技术领域，具体涉及一种半导体光刻补偿方法，包括：通过机台组合对晶圆进行光刻，机台组合至少包括第一机台和第二机台；通过第一机台进行光刻得到第一曝光结构；获取第一曝光结构的套刻误差的第一测量值；根据第一测量值对第二机台的初始下货值进行补偿。在进行半导体结构的制作过程中，可以通过测量第一机台加工形成的第一曝光结构的套刻误差，将第一测量值对第二机台的初始下货值进行补偿，以便得到第二机台的最优下货值，后续第二机台进行光刻时，第二机台根据其最优下货值进行光刻加工，有利于保证后续第二机台加工形成的曝光结构的套刻误差准确性，从而减少重工次数。

所以说在突破高端光刻机限制方面，不仅仅只有华为在努力，其他企业也在努力，而且还有优势互补，我相信我们一定可以突破封锁，期待那一天的到来。

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